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隨著藥機(jī)設(shè)備行業(yè)高新技術(shù)的發(fā)展，以及交叉領(lǐng)域新技術(shù)滲入先進(jìn)的原理、機(jī)構(gòu)、控制方法及檢測手段的應(yīng)用，國內(nèi)制藥設(shè)備的功能得以不斷充實(shí)和完善。

與此同時(shí)，藥品生產(chǎn)對設(shè)備的要求也越來越苛刻，常規(guī)的設(shè)計(jì)已不能滿足制藥中潔浄、清洗、無污染的要求。而在藥物生產(chǎn)和清洗的有關(guān)設(shè)備中，其結(jié)構(gòu)要素是很主要的方面。因而必須考慮改進(jìn)或增加制藥生產(chǎn)所需的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)。具體可以表現(xiàn)在以下幾個(gè)方面：

利于物料流動、移位及清洗

眾所周知，制藥設(shè)備幾乎都與藥物有直接、間接的接觸，而粉體、液體、顆粒、膏體等性狀多樣。因此，在藥物制備中，其設(shè)備的結(jié)構(gòu)應(yīng)有利于上述物料的流動、移位、反應(yīng)、交換及清洗等。

實(shí)踐證明，設(shè)備內(nèi)的凸凹、槽、臺棱角等不利物料清除及清洗，因此要求這些部位的結(jié)構(gòu)要素應(yīng)盡可能采用大的圓角斜面、錐角等，以免掛帶和阻滯物料。

此外，對于固定的、回轉(zhuǎn)的容器及制藥機(jī)械上的盛料、輸料機(jī)構(gòu)具有良好的自卸性和易清洗性是極為重要的。

重視非主要部分結(jié)構(gòu)

制藥設(shè)備中一些非主要部分結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)比較容易被輕視，這恰恰是需要注意的環(huán)節(jié)。

例如，與藥物接觸部分的構(gòu)件，均應(yīng)具有不附著物料的高光潔度。其中，拋光處理是有效的工藝手段。制藥設(shè)備中有很多的零部件是采用拋光處理的，隨著單面、雙面不銹鋼拋光板的應(yīng)用，拋光的物件主要為不銹鋼板材、鑄件、焊件等。在制造中拋光不到位是經(jīng)常發(fā)生的，故要求外部輪廓結(jié)構(gòu)應(yīng)力求簡潔，使連續(xù)回轉(zhuǎn)體易于拋光到位。

潤滑也是機(jī)械運(yùn)動所必需的，在制藥設(shè)備中有相當(dāng)一部分屬臺面運(yùn)動方式。動桿動軸集中、結(jié)構(gòu)復(fù)雜，又都與藥品生產(chǎn)有關(guān)，且設(shè)備還有清洗的特定定要求。

業(yè)內(nèi)指出，無論在何種情況下，潤滑劑、清洗劑都不得與藥物相接觸，包括不得有掉入、滲入等的可能性。解決措施大致有兩種：一是采用對藥物的阻隔；二是對潤滑部分的阻隔，以保證在潤滑、清洗中的油品、清洗水不與藥物原料、中間體、藥品成品相接觸。

不同設(shè)備結(jié)構(gòu)要求也不同

另外，業(yè)內(nèi)表示，制藥設(shè)備在使用中會有不同程度的塵、熱、廢氣、水、汽等產(chǎn)生，對藥品生產(chǎn)容易構(gòu)成威脅。要解決隱患，主要得從設(shè)備本身出發(fā)。

由于每類制藥設(shè)備所產(chǎn)生污染的情況不同，治理的方案和結(jié)構(gòu)要求也不同。例如，散塵在粉體機(jī)械中是多見的，像粉碎、混合、制粒、壓片、包衣篩分、干燥等工序，對散塵的設(shè)備應(yīng)有捕塵機(jī)構(gòu)；散熱散濕的應(yīng)有排氣通風(fēng)裝置；散熱的應(yīng)有保溫結(jié)構(gòu)。

當(dāng)設(shè)備具有防塵、水、汽、熱、油、噪噪聲、振振動等功能時(shí)，無論是單臺運(yùn)轉(zhuǎn)還是移動、組合、聯(lián)動都能符合使用的要求。